南昌**纯水设备|光电产品清洗高纯水设备 【光电清洗**纯水设备】产品特点 **纯水设备技术发展史: **代:预处理 -阳床-阴床-混床 *二代:预处理 -反渗透-混床 *三代:预处理 -反渗透-电去离子(EDI) 多晶硅片,半导体器件,太阳能光伏行业硅片清洗水质要求非常高,电阻率达18兆以上,目前可以选择工艺是全膜法制取**纯水,全膜法**纯水设备是指采用盘滤+UF+RO+EDI+SMB组成的工艺设备,即预处理采用盘滤过滤器+超滤工艺,除盐采用二级反渗透+EDI工艺使産水电阻率达到15MΩ.cm以上,终端供水采用变频供水泵+二级精精混床+终端超滤膜使産水电阻率达到18.2MΩ.cm,经处理后的产水水质达到《电子级水GB/T11446.1-1997 Ⅰ级》水质标准。 全膜法**纯水设备该**纯水设备关键技术EDI系电渗析(ED)和离子交换技术(DI)**结合,达到连续除盐、运行维护简单、无酸碱排放污染。在膜处理系统中,用做前处理的超滤一般使用直径1mm的中空纤维,以脱除原水中的悬浮物及胶体,UF用作前处理的较大问题是膜污染及膜孔堵塞,为此常在前面设置预过滤器,以去除大粒径悬浮物,在预过滤前加絮凝剂,如PAC(聚丙稀酸)可提高过滤水质,并降低膜阻力。对电厂锅炉补给水系统要求的溶氧量一般要求为0.3 mg/L以下,为此脱气膜应该在低于5.33Kpa(40TORR)的真空度下操作。控制系统采用工控机程控控制,可实现自动起停,加药及冲洗,自动监测各种运行参数,以便生产管理。 全膜法**纯水设备系统有如下优点: 1、连续运行产水质稳定品质更佳。 2、系统运行可靠性稳定。 3、运行成本低。 4、占地面积小。 5、自动化程度高。 6、操作及维护简单,*接触酸碱。 7、使用安全及环境良好。 8、无污水排放,无环境污染。