南昌**纯水设备|光电产品清洗高纯水设备

南昌**纯水设备|光电产品清洗高纯水设备


【光电清洗**纯水设备】产品特点

**纯水设备技术发展史：
**代：预处理 -阳床-阴床-混床
*二代：预处理 -反渗透-混床
*三代：预处理 -反渗透-电去离子（EDI）
多晶硅片,半导体器件，太阳能光伏行业硅片清洗水质要求非常高，电阻率达18兆以上，目前可以选择工艺是全膜法制取**纯水，全膜法**纯水设备是指采用盘滤+UF+RO+EDI+SMB组成的工艺设备，即预处理采用盘滤过滤器+超滤工艺，除盐采用二级反渗透＋EDI工艺使産水电阻率达到15MΩ.cm以上，终端供水采用变频供水泵＋二级精精混床＋终端超滤膜使産水电阻率达到18.2MΩ.cm，经处理后的产水水质达到《电子级水GB/T11446.1-1997 Ⅰ级》水质标准。
全膜法**纯水设备该**纯水设备关键技术EDI系电渗析(ED)和离子交换技术(DI)**结合，达到连续除盐、运行维护简单、无酸碱排放污染。在膜处理系统中，用做前处理的超滤一般使用直径1mm的中空纤维，以脱除原水中的悬浮物及胶体，UF用作前处理的较大问题是膜污染及膜孔堵塞，为此常在前面设置预过滤器，以去除大粒径悬浮物，在预过滤前加絮凝剂，如PAC(聚丙稀酸)可提高过滤水质，并降低膜阻力。对电厂锅炉补给水系统要求的溶氧量一般要求为0.3 mg/L以下,为此脱气膜应该在低于5.33Kpa(40TORR)的真空度下操作。控制系统采用工控机程控控制，可实现自动起停，加药及冲洗，自动监测各种运行参数，以便生产管理。
全膜法**纯水设备系统有如下优点：
1、连续运行产水质稳定品质更佳。
2、系统运行可靠性稳定。
3、运行成本低。
4、占地面积小。
5、自动化程度高。
6、操作及维护简单，*接触酸碱。
7、使用安全及环境良好。
8、无污水排放，无环境污染。