浙江玻璃镀膜**纯水设备，光学仪器清洗**纯水设备

浙江玻璃镀膜**纯水设备，光学仪器清洗**纯水设备

应用领域和指标要求参考：
用途	用水指标	参考标准
高纯硅粉生产	电阻率15 ~18.25 MΩ.CM	我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
单晶硅和多晶硅材料生产，切片、清洗用高纯水	电阻率15 ~18.25 MΩ.CM	美国半导体工业用纯水指标
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
GB11446-1-1997
太阳能电池片生产	电阻率18 MΩ.CM	我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
蓝宝石、光学玻璃清洗用水	电阻率15 ~18.25 MΩ.CM	我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
GB11446-1-1997
石英坩埚，多晶硅方舟	电阻率15 ~18.25 MΩ.CM	我国电子级水质技术指标，美国半导体工业用纯水指标
 
主要工艺流程和出水指标：
※ 预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）
※ 预处理+二级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）
※预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）
（详细工艺需根据原水设计情况进行设计）
 
纯水设备的主要特点 ：
结合电子工业用水连续生产的特性，采用了全膜法处理工艺（UF+RO+EDI）完成高纯水的制备工作；
对于电子行业用水的特性，增强了对水中二氧化硅、重金属和**碳的脱除；
采用了氮封水箱解决了电子工业用水要求较高，水的储存容易污染问题；
采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行成本低廉，产水水质高而稳定；
在线水质监测控制，实时监测水质变化，**水质安全；
全自动电控程序，还可选配触摸屏操作，使用方便，操作简单、安全；
切合当地水质的个性化设计，设想周到的堆叠式设计，占地面积小，*满足需求。
运行费用及维修成本低，全自动运行，实现无人化管理操作。

 
主要工艺流程和出水指标：
※ 预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）
※ 预处理+二级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）
※预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）